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MD 1C +AK+EK 化學真空系統(tǒng)

簡要描述:MD 1C +AK+EK 化學真空系統(tǒng)廣泛應用于排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。它可滿足高沸點溶劑更高的真空需求,常用來取代旋片泵。主要用于連接旋轉蒸發(fā)儀和真空干燥箱。進氣口的分離瓶(AK)為玻璃材質,外部覆保護膜,用來防止顆?;蛐∫旱芜M入泵體。出氣口的廢氣冷凝器(EK)效率高,結構緊湊,可實現(xiàn)近100%的溶劑回收效果,有效地循環(huán)利用溶劑同時保護環(huán)境。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-07-04
  • 訪  問  量:1185

詳細介紹

品牌Vacuubrand/德國應用領域化工

MD 1C +AK+EK 化學真空系統(tǒng)

描述

該款化學真空系統(tǒng)廣泛應用于排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。它可滿足高沸點溶劑更高的真空需求,常用來取代旋片泵。主要用于連接旋轉蒸發(fā)儀和真空干燥箱。進氣口的分離瓶(AK)為玻璃材質,外部覆保護膜,用來防止顆?;蛐∫旱芜M入泵體。出氣口的廢氣冷凝器(EK)效率高,結構緊湊,可實現(xiàn)近100%的溶劑回收效果,有效地循環(huán)利用溶劑同時保護環(huán)境。

性能特性

  • 化學耐腐蝕性和蒸汽耐受性

  • 在較高真空度下仍具有非常好的性能

  • 使用氣鎮(zhèn)仍能達到很好的極限真空

  • 排氣安靜,振動極低

  • 高效的溶劑回收系統(tǒng),使其成為一款環(huán)境友好的產品


MD 1C +AK+EK 化學真空系統(tǒng)技術指標:

MD 1C +AK+EK 化學真空系統(tǒng)

Vacuubrand MD 1C +AK+EK化學真空系統(tǒng)是專為實驗室腐蝕性氣體處理設計的緊湊型解決方案,由MD 1C基礎型隔膜泵、AK酸性氣體中和器和EK化學捕集器組成。該系統(tǒng)采用PTFE密封結構和耐腐蝕材料,可處理中等強度的酸性氣體和有機溶劑(符合ISO 15859標準),極限真空達160mbar。AK中和器內置特殊吸附劑有效處理酸性氣體,EK捕集器配備制冷單元和化學惰性內腔,實現(xiàn)腐蝕性蒸汽的雙重防護。整機運行噪音<50dB(A),體積小巧且維護簡便,特別適合教學實驗室和小型化學實驗的真空需求,標配壓力顯示和基本保護功能,是性價比優(yōu)異的入門級化學真空方案。

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